Tantaltarget

Beschreibung
Tantaltargets bieten konsistente und reproduzierbare Prozessleistung mit hoher Gleichmäßigkeit. Die Beseitigung der Texturbildung während der Herstellung sorgt für eine gleichmäßige Mikrostruktur, welche eine verbesserte frühe Stabilität und konsequente Sputter-Leistung während der gesamten Lebensdauer liefert.
Für Tantaltargets konzentrieren wir uns darauf, unseren Kunden, hohe Reinheiten von 3N bis 5 N, feine und gleichmäßige Korngröße, die Abschaffung der starke Texturkanten, und frühe Stabilität der Targetgröße zu bieten.
Die metallischen Verunreinigungen und gasförmigen Verunreinigungen unserer Tantaltargets wurden durch bekannte Behörden auf der ganzen Welt gemessen.
Außerdem bieten wir auch Recycling Programm für zurück gewonnene Schrotttargets.

Anwendung
Mit hervorragender Korrosionsbeständigkeit , hoher Temperaturbeständigkeit und guter Biokompatibilität wird das Tantaltarget für viele Dünnschichtanwendungen verwendet, wie beispielsweise Diffusionsbarrierematerial, Speichervorrichtungen, Gate-Elektrode in MOSFET- Vorrichtungen, einer Schutzschicht für Druckkopfvorrichtungen und Barrieremetall  für Kupferkabel-Geräte.

Chemische Zusammensetzung des Tantaltarget

Chemie   ppm
Kennzeichen Hauptkomponente Verunreinigung  Maximum
Ta Nb Fe Si Ni W Mo Ti O C H N
Ta1 Rest 300 40 30 20 40 40 20 150 40 15 20
Ta2 Rest 800 100 100 50 200 200 50 200 100 15 100
TaNb3 Rest <35000 100  100 50 200 200 50 200 100 15 100
TaNb20 Rest 170000- 230000 100 100 50 200 200 50 200 100 15 100
Ta2.5W Rest 400 50 30 20 30000 60 20 150 50 15 60
Ta10W Rest 400 50 30 20 110000 60 20 150 50 15 60

Verpackung und Transport
Wir packen Tantaltargets in Sperrholzkisten and senden diese auf dem See- oder Luftweg.

Gegründet im Jahr 2008, Zhuzhou Tongyi Industry Co., Ltd. ist ein professioneller Hersteller und Lieferant von Tantaltargets in China. Wenn dieses Produkt Sie interessiert, kontaktieren Sie uns bitte.

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